B alaşımlı hedefler için 5-10 mm boyutlarında %99-99,99 saflıkta bor kristal granülleri.
B alaşım hedefleri için 5-10 mm boyutlarında %99-99,99 saflıkta bor kristal granülleri. Bor saflığı %99 ile %99,99 arasında değişmektedir. Malzeme, tam kristal yapı, düşük safsızlık içeriği, kararlı kimyasal özellik ve düşük gaz salınımı özelliklerine sahiptir.
Esas olarak bor alaşım püskürtme hedefleri için hammadde olarak kullanılır. Vakum eritme, alaşım eritme, yarı iletken ince film kaplama, PVD hedef hazırlama ve gelişmiş elektronik malzeme üretimi için uygundur. Tekdüze bileşime sahip bor içeren alaşım hedefleri hazırlamak için metal matrise eklenebilir.
![]()
Çin’den ithal edilen 3N 4N Kristal Bor Granül 3-5mm 5-10mm Ürün Endeksi:
| Moleküler Formül: | B |
| CAS | 7440-42-8 |
| Yoğunluk | 2,3 g/cm³ |
| Faz | β-B fazı |
| Erime Noktası | 2300°C |
| Kaynama noktası | 2550°C |
| Mohs sertliği | >9 |
| Bağıl atom kütlesi | 10.81 |
| Kararlı izotoplar | 10B、11B |
| Renk | Koyu Gri, Siyah |
Kimyasal bileşim:
| Kimyasal | 2N KRİSTAL BORON | 3N KRİSTALİN BOR | 4N KRİSTALİN BOR | 5N KRİSTAL BORON | 6N KRİSTAL BORON |
| B | ≥%99 | ≥%99,9 | ≥%99,99 | ≥99.999% | ≥99.9999% |
| Fe | ≤500 ppm | ≤200 ppm | ≤90 ppm | ≤8 ppm | ≤0,5 ppm |
| At | ≤2,5 ppm | ≤0,08 ppm | ≤0,06 ppm | ≤0,02 ppm | ≤0,02 ppm |
| At | ≤1 ppm | ≤0,8 ppm | ≤0,3 ppm | ≤0,03 ppm | ≤0,03 ppm |
| İle | ≤12 ppm | ≤10 ppm | ≤0,1 ppm | ≤0,03 ppm | ≤0,03 ppm |
| Sn | ≤30 ppm | ≤9 ppm | ≤0,1 ppm | ≤0,1 ppm | ≤0,08 ppm |
| Mn | ≤300 ppm | ≤3 ppm | ≤1,1 ppm | ≤0,1 ppm | ≤0,07 ppm |
| Kurşun | ≤0,08 ppm | ≤0,3 ppm | ≤1,1 ppm | ≤0,08 ppm | ≤0,02 ppm |
| O | / | ≤18 ppm | ≤0,2 ppm | ≤0,1 ppm | ≤0,01 ppm |
| Gibi | / | / | / | ≤0,08 ppm | ≤0,01 ppm |
| İÇİNDE | / | / | / | ≤0,05 ppm | ≤0,02 ppm |
| Ge | / | / | / | ≤0,05 ppm | ≤0,04 ppm |
Tipik boyut ve paket:
| BORON İÇERİĞİ | TIPİK BOYUT | Paket |
| 99 | 1-5 μm, 10-30 μm, 50-100 μm | 1 kg/5 kg vakumlu alüminyum folyo torbada paketlenmiştir (sadece nano toz mühürlenmiştir, vakum uygulanmamıştır). |
| 99.9 | -200 Mesh, 0-10 μm, 1-10 mm | Toz halinde: 1 kg/5 kg vakumlu alüminyum folyo torbada paketlenmiştir.
Granül tipi: 50g/500g/1000g, PP şişede paketlenmiş, inert gaz koruması ile doldurulmuştur. |
| 99.99 | -200 Mesh, 1-10mm | 50g/100g PP şişede paketlenmiş, inert gaz contasıyla doldurulmuştur. |
| 99.999 | ||
| 99.9999 |
Başvuru:
1. Nükleer Sanayide Kristal Borun Uygulamaları:
Crystalline boron plays a crucial role in the nuclear energy field. It can be used as a neutralization control material in nuclear reactors. Boron can compensate for and regulate neutralization reactivity and to facilitate emergency shutdowns. Thus maintains stable reactor operation. Crystalline boron not only has a high neutralization absorption cutoff but also a wide range of neutralization energy absorption, effectively reducing or regulating the neutralization flux generated by nuclear energy. Thereby it ensures the safety of the nuclear energy system.
2. Applications of Crystalline Boron in Semiconductor Manufacturing:
Crystalline boron is also widely used in the semiconductor industry. As a p-type dopant, crystalline boron can be used to modify the conductivity of semiconductor materials. By doping crystalline boron into silicon Ingot, the conductivity properties of silicon can be altered. Then manufacture semiconductor devices with different conductivity types, such as diodes and field-effect transistors. In addition, crystalline boron can also be used as a raw material for growing long-lasting semiconductor single-crystal materials. Boron-doped silicon single crystals can be grown using a melt-blown method for fabricating high-performance semiconductor devices.
99.9% purity crystalline boron powder is used in the production of solar silicon wafers as a substrate dopant for P-type silicon wafers and as a boron emitter diffuser for N-type silicon wafers. High-purity boron powders of 5N and 6N can be used as dopants for P-type semiconductors to alter their conductivity and are used in the production of high-purity silicon wafers.
3. Application of crystalline boron in semiconductor sputtering targets:
3N and 4N crystalline boron particles can be added to functional alloy products to form targets for semiconductor sputtering coating.
4. Applications of Crystalline Boron in Optics:
Crystalline boron also has extensive applications in optics. Due to its excellent nonlinear optical properties, crystalline boron can achieve functions such as light modulation, frequency sweeping, and frequency doubling. Therefore, crystalline boron is widely used in optical devices, including optical modulators, optical frequency combs, and lasers. Furthermore, crystalline boron can also be used as a gain medium in infrared lasers, exhibiting a large emission cutoff and a wide excitation spectrum range.
5. Crystalline Boron in High-Hardness Ceramic Materials:
Kristalize bor, bor karbür (B4C) ve grafit bor bileşikleri (Bg) gibi yüksek sertlikte malzemelerin hazırlanmasında da kullanılabilir. Bor karbür, mükemmel aşınma direnci ve yüksek sıcaklık direncine sahip son derece sert bir seramik malzemedir ve bu nedenle kurşun geçirmez zırh, sert aletler, aşındırıcılar ve aşınmaya dayanıklı seramiklerin üretiminde yaygın olarak kullanılır. Grafit bor bileşikleri, grafit benzeri bir yapıya sahip, yüksek elektriksel iletkenlik ve termal kararlılık gösteren malzemelerdir ve yüksek performanslı iletken bağlayıcılar, termal iletken malzemeler ve sürtünme malzemeleri hazırlamak için kullanılabilir.
6. Termal Pillerde Kristal Borun Uygulamaları:
Termal bataryalar, elektrolit olarak erimiş tuz kullanan tek fazlı, termal olarak aktive edilen depolama bataryalarıdır. Küçük boyut, hafiflik, uzun depolama süresi, bakım gerektirmeyen çalışma, hızlı ve güvenilir aktivasyon ve geniş çalışma sıcaklığı aralığı gibi avantajlara sahiptirler ve bazı stratejik ve konvansiyonel silahların ateşleme cihazlarında yaygın olarak kullanılırlar. Termal bataryanın anot malzemesi, kapasitesi, hacmi ve güç çıkışında belirleyici bir rol oynar. Termal batarya anot malzemeleri, başlangıçtaki magnezyum ve kalsiyum bazlı malzemelerden günümüzdeki lityum bazlı malzemelere doğru evrim geçirmiştir. Örneğin, Li-B kompozitleri, yüksek enerji yoğunluğu, yüksek güç çıkışı, düşük polarizasyon, saf lityuma yakın elektrokimyasal potansiyel ve 600℃’nin üzerindeki sıcaklıklarda katı halde kalma gibi olağanüstü avantajlara sahiptir. En umut vadeden termal batarya anot malzemesidir ve yüksek performanslı termal bataryalarda giderek daha fazla kullanılmaktadır.
7. Askeri Sanayide Kristal Borun Uygulamaları:
Kristalize bor, yüksek saflıkta bor seramik balistik malzemeler, yüksek saflıkta bor geciktirici maddeler, yüksek saflıkta bor kaynak akıları, yüksek saflıkta bor patlayıcılar ve yüksek saflıkta bor yakıt açısından zengin ve oksijen bakımından fakir roket yakıtları üretmek için kullanılabilir.
8. Alaşım üretiminde kristal bor:
Yüksek saflıkta bor bakır alaşımı, yüksek saflıkta bor titanyum alaşımı, yüksek saflıkta bor polikristalin çelik, yüksek saflıkta bor süper sert aşınmaya dayanıklı aletler, yüksek saflıkta bor korozyona dayanıklı çelik levhalar, yüksek saflıkta bor nikel alaşımı, yüksek saflıkta bor krom alaşımı, lityum bor alaşımı (yeni bir pil malzemesi), bor-magnezyum süper iletken alaşımı.
9. Kristal borun havacılık ve uzay alanındaki uygulamaları:
Yüksek saflıkta kristal bor tozu, nano kaplama tozu malzemesi olarak kullanılabilir. Püskürtme teknolojisiyle, toz malzeme bir alt tabakanın yüzeyine kaplanarak bileşenleri aşınmaya, korozyona, yüksek sıcaklığa, oksidasyona ve hava koşullarına dayanıklı hale getirir. Bu, havacılık ve uzay sektörünün son derece zorlu çalışma koşullarındaki motorların gereksinimlerini karşılar ve ayrıca optoelektronik ve diğer alanlardaki özel gereksinimleri de karşılayabilir.
![]()
Paket:
![]()
SSS:
1. S: Çin’den kristal bor malzemesinin ihracatına ilişkin herhangi bir kısıtlama var mı?
A: Evet, yüksek saflıkta kristalize bor küçük taneleri ve bor tozu için çift kullanımlı ihracat lisansı alınması gerekiyor. Ancak 0,5-1 mm’den büyük boyutlar ihraç edilebilir.
2. S: Kristal bor tozunun kristal fazı nedir?
A: Bu, ikosahedral yapının beta fazıdır.




